合金ICP光譜儀還有許多根據(jù)用戶的建議和實際經驗而改進的地方。比如耐化學腐蝕的表面和便于維修更換部件的側面開門等。該儀器配備*CCD光學系統(tǒng)設計*可靠的RF發(fā)生器，簡化了安裝和培訓要求。按照EPA標準預先設置好分析方法，適合分析：金屬、水/廢水、土壤、泥污、濾渣等。儀器設備緊湊，占用面積小，樣品流程非常短，因此大大縮短了分析時間和沖洗時間。

　　在ICP光源中，光譜干擾是十分嚴重的干擾，光譜干擾主要分為兩類：

　　一類是譜線重疊干擾，是由于光譜儀色散率和分辨率的不足，使某些共存元素的譜線重疊在分析上的干擾；

　　另一類是背景干擾，這類干擾與基體成分及ICP光源本身所發(fā)射的強烈的雜散光的影響有關。

　　對于譜線重疊干擾，采用高分辨率的分光系統(tǒng)，決不是意味著可以*消除這類光譜干擾，只能認為當光譜干擾產生時，它們可以減輕至小強度。因此，常用的方法是選擇另外一條干擾少的譜線作為分析線，或應用干擾因子校正法(IEC)予以校正。對于背景干擾，有效辦法是利用現(xiàn)代儀器所具備的背景校正技術給予扣除。